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半导体行业专用仪器

1200℃CVD管式炉

产品特点 系列产品主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料,炉管

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产品详情

产品特点

   系列产品主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料,炉管材质优良,炉管两端不锈钢法兰密封,可在真空下工作,法兰上有进气口和出气口,可通入保护气体,精密针型阀可调节进气流量。

1、CVD管式炉系统由加热系统、真空获得系统和气路系统组成。

2、管式炉可选择不同的管径和恒温区的长度,炉管两端的不锈钢密封法兰也可选择高真空法兰和低真空法兰;

3、真空获得系统可根据试验要求选择不同的真空泵,旋片式机械真空泵真空度≤5pa,分子泵真空机组真空度1×10-4pa;

4、气路供气系统可选择3路浮子手动和3路自动质量流量系统。

5、真空测量用作数字复合真空机或皮拉尼真空计。

6、温控器内置的RS485数字通信端口和USB适配器作为可选配置,可连接PC,用于系统的远程控制和监视,还可以保存或导出测试结果。

标签: 代理代购

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