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半导体行业专用仪器

高温高压光学浮区炉

单晶炉特点 ● 采用垂直式光路设计 ● 采用高照度短弧氙灯,多种功率规格可选 ● 熔区温度:3000℃ ● 熔区压力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多种规格可选 ● 氧气/氩气/氮气/空气/混

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产品详情

单晶炉特点


●  采用垂直式光路设计

●  采用高照度短弧氙灯,多种功率规格可选

●  熔区温度:>3000℃

●  熔区压力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多种规格可选

●  氧气/氩气/氮气/空气/混合气等多种气路可选

●  采用光栅控制技术,加热功率从0-100% 连续可调

●  样品腔可实现低至10-5mbar真空环境

●  丰富的可升选件

标签: 代理代购

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